Бакалаврські роботи
Постійне посилання зібранняhttps://dspace.khadi.kharkov.ua/handle/123456789/3896
Переглянути
Перегляд Бакалаврські роботи за Ключові слова "вакуумна дуга"
Зараз показуємо 1 - 2 з 2
- Результатів на сторінці
- Налаштування сортування
Документ Дослідження фізико-механічних властивостей вакуумно-дугових багатошарових TiN-MoN покриттів(Харківський національний автомобільно-дорожній університет, 2024) Куліш, Максим ВікторовичВ кваліфікаційній роботі виконується дослідження багатошарових покриттів MoN-TiN. Мета роботи: дослідження фізико-механічних характеристик, морфології, кристалічної структури та елементного складу нанокристалічних надтвердих багатошарових покриттів, які сформовано вакуумно-дуговим методом в діапазоні температур підкладки від 120 ºС до 470 ºС. Методи досліджень: кристалічна структура та морфологія плівок досліджувалась за допомогою мікроіндентації, растрової електронної мікроскопії, рентгенівської дифрактометрії, рентгенівської спектроскопії. Нанокристалічні надтверді (Н ≥ 40 ГПа) покриття TіN-MoN були отримані з використанням модернізованої вакуумно-дугової установки "Булат-6". Твердість покриттів була визначена з використанням мікроіндентора "Мікрон-Гама". З використанням растрової електронної мікроскопії досліджено морфологічну структуру надтвердих покриттів MoN-TiN, які сформовано вакуумно-дуговим методом, в тому числі з використанням імплантації іонів у процесі осадження. Отримано дані щодо їх твердості, модуля пружності, кристалічної структури та фазового складу в залежності від умов формування. Основні результати роботи, їхня актуальність зумовлюється необхідністю створення та дослідження дослідно-промислових технологій нанесення надтвердих від 40 ГПа до 50 ГПа наноструктурних багатошарових покриттів на основі нітридів металів ІV-VІ груп таблиці Менделєєва.Документ Дослідження фізико-механічних властивостей вакуумно-дугових наноструктурних Ti-Si-N покриттів(Харківський національний автомобільно-дорожній університет, 2024) Віденьов, Олег ЮрійовичВ кваліфікаційній роботі виконується визначення умов і параметрів нанесення надтвердих (вище 40 ГПа) наноструктурних покриттів Ti-Si-N, товщиною більше 4 мкм. Об’єктом дослідження є надтверді наноструктурні покриття товщиною більше 4 мкм на основі нітридів, що осаджуються з багатокомпонентних катодів. Методи досліджень – вимірювання мікротвердості, рентгенофазовий і рентгеноструктурний аналізи, рентгенофлуоресцентний аналіз, електронна мікроскопія. Отримані надтверді (≥ 40 ГПа) наноструктурні Ti-Si-N покриття шляхом вакуумно-дугового випарування Ti-Si катодів, одержаних методом порошкової металургії. Виявлено, що концентрація кремнію в синтезованих Tі-Sі-N покриттях і макрочастинках значно менше вмісту кремнію в TіSі катодах. Введення кремнію в титан при вмісті 15 ат. % Sі істотно змінює елементний склад покриттів. Ці наноструктурні покриття є метастабільними пересиченими твердими розчинами кремнію в кубічній фазі нітриду титану. Фаза нітриду кремнію Sі3N4 рентгенографічним методом виявлена не була. Мікротвердість вакуумно-дугових Tі-Sі-N покриттів, отриманих випаровуванням порошкових катодів, залежить від кількості кремнію в них і може досягати 48 ГПа при його вмісті в катоді 15 ат.%.